Fabrication of rainbow hologram with NanoMaker  Fabrication of Rainbow Hologram with NanoMaker
 NanoMaker  Скачать  Примеры Использования  Поддержка  Публикации  Контакты 
English      Russian
 NanoMaker
 Скачать
 Примеры Использования
 Поддержка
 Услуги
 Q&A
 Требования к Микроскопу
 Требования для Инсталляции
 Публикации
 Контакты
Site search by Google
Рейтинг@Mail.ru  eXTReMe Tracker
Q&A item.

Q&A item

Q&A: General

Q: What maximum field area can be exposed without moving the stage?
What maximum field area can be exposed without moving the stage? It is supposed that the structure element has minimum size of 0.3 micron.
A: Maximum area of writing without stage movement depends on the characteristics of microscope:
  • on defocusing at the area bounds (at the big beam deflection anlge)
  • on the value of astigmatism at the area bounds
  • and on noise of microscope amplifiers (beam jitter) at various magnifications (in case of JSM-840 when magnification becomes smaller than 100 the noise usually increases tens times).
    For example, using LEO-1560 or JSM-840 one can expose structures of minimum size 0.3 microns in the field of 1 mm.
  • Back to Q&A list
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                       
     
        Copyright © 2002-2017 Interface Ltd. & IMT RAS