Fabrication of rainbow hologram with NanoMaker  Fabrication of Rainbow Hologram with NanoMaker
 NanoMaker  Скачать  Примеры Использования  Поддержка  Публикации  Контакты 
English      Russian
 NanoMaker
 О Продукте
 Функции
 Продукты
 Генератор Изображений
 Фотогалерея
 Скачать
 Примеры Использования
 Поддержка
 Публикации
 Контакты
Site search by Google
Рейтинг@Mail.ru  eXTReMe Tracker
Основные функции продукта

Функции NanoMaker

Основные функции литографической системы:

Проектирование структур и подготовка данных для экспонирования


Увеличить (в новом окне, 27.7 kb)
    Проектирование
    Существенной частью ПО NanoMaker является редактор литографических структур. Любая структура может быть создана, скорректирована и проэкспонирована в рамках одной программы, без необходимости создания промежуточных файлов и переключения между различными приложениями. NanoMaker позволяет создавать (проектировать) структуры практически любого масштаба и любой сложности, используя несколько простых геометрических фигур (точки, линии и полигоны), примерно также как это происходит в любой Системе Автоматического Проектирования (САПР). В отличие от САПР, этим геометрические фигурам - элементам присущи дополнительные атрибуты, специфические для литографических структур - доза экспонирования, слой, 3D атрибут и др. В дополнение к простым существует еще целый набор более сложных эленентов, упрощающих проектирование объектов киноформной оптики, радужных голограмм и др. А вставка ссылок на структуры (или даже массивов вставок) позволяет создавать очень сложные иерархические структуры при сохранении относительно малых размеров файлов данных.

    Коррекция
    В отличие от САПР, NanoMaker включает еще и подсистему преобразования спроектированных структур с целью достичь максимального разрешения при электронно-лучевй литографии. Например, эта подсистема производит коррекцию эффекта близости, при которой исходная структура подвергается дроблению на меньшие по размеру элементы и каждому элементу ставится в соответствие некоторое отличное время экспонирования (доза). Это особенно важно для плотно упакованных структур, с элементами различного размера в субмикронном диапазоне. Эта функция позволяет достигать высокой точности воспроизведения размеров элементов за один раз, без необходимости подбора параметров и проведения тестовых экспонирований.


    Увеличить (в новом окне, 32.3 kb)

    Импорт/Экспорт
    Результаты проектирования запоминаются в специальном формате Графической Базы Данных (расширение GDB). Для обеспечения связи с другими САПР и/или с другими литографическими системами NanoMaker обеспечивает импорт/экспорт структур в форматы GDS, CSF, DXF, DC2 и ELM (ASCII).

    Специальные преобразования
    Для получения наилучших результатов при подготовке данных для других литографических систем NanoMaker включает дополнительные операции со всей структурой или ее выделенной частью, например, выравнивание дозы экспонирования, поиск и удаление налегающих элементов структуры, обращение полей экспонирования при переходе от негативного к позитивному резисту и др.

    Система выбора параметров экспонирования, коррекции, моделирования
    В NanoMaker включена справочная таблица рекомендованных параметров для выбора режимов экспонирования, коррекции эффекта близости и моделирования. Данные, полученные в результате большого количества экспериментов для нескольких типов резистов и подложек позволяют аппроксимировать параметры функции близости в широком диапазоне ускоряющих напряжений, толщин резистов и размеров луча РЭМ. Предусмотрена возможность дополнения таблицы данными пользователя. Кроме того, данные для выбора параметров экспонирования, коррекции и моделирования могут быть рассчитаны с помощью интегрированной в NanoMaker подпрограммы расчета по методу Монте Карло.

Экспонирование, включая экспонирование с переездами стола

    Экспонирование, моделирование экспонирования, оценка времени
    Одной из основных функций NanoMaker является экспонирование при котором с помощью генератора Изображений электронный луч приводится в заданную точку и стоит в ней заданное время. При этом НаноМейкер автоматически осуществляет перемещение стола, если структура превышает поле сканирования. Специальная подсистема позволяет заранее оценить время экспонирования, а также промоделировать (показать) на экране ПК траекторию движения луча.

    Совмещение и послойная литография, включая совмещение и стыковку полей с автоматическим распознаванием маркеров
    Как правило, литография включает несколько последовательных экспонирований, поэтому NanoMaker обеспечивает (автоматические) поиск и правильную ориентацию экспонируемой структуры относительно уже созданных структур на подложке за счет поиска и распознавания маркерных знаков.

    Специальные прерывания для компенсации дрейфа
    В случае длительных экспонирований (пол-часа и больше), когда используются переезды стола, предусмотрены специальные прерывания (с запоминанием места прерывания экспонирования), в ходе которых NanoMaker перемещает один из маркерных знаков в поле сканирования, измеряет сдвиг его положения относительно измеренного ранее, вводит необходимую поправку в систему отклонения пучка для компенсации дрейфа и возвращается к месту экспонирования.

    Моделирование проявления
    Позволяет предсказать форму резиста после экспонирования и проявления. Для моделирования проявления позитивных и негативных резистов используются дополнительно котраст резиста или дозовая кривая целиком. Моделирование проявления полезно при обучении литографии и при выборе оптимальных технологический условий, поскольку очень быстро, без выполнения реального экспонирования и проявления позволяет предсказать результаты литографии.

    Управление микроскопом, столом, бланкером и др.
    NanoMaker позволяет контролировать перемещение стола в большинстве моделей микроскопов, оснащенных моторизованными либо лазерными столами.
    Если микроскоп оснащен бланкером, NanoMaker может управлять прерыванием электронного луча в колонне.
    Для некорых современных моделей РЭМ NanoMaker позволяет осуществить управление микроскопом, что включает, например, управление рабочим расстоянием, увеличением, ускоряющим напряжением, током пучка и др.

Съем изображений для совмещения слоев и измерений

    Съем изображений из списка окон с графической обработкой
    При подключении к некомпьютеризованным РЭМ NanoMaker может использоваться для съема с высоким разрешением и записи изображений в файлы (в формате TIFF). Возможна графическая обработка (фильтрация, выбор оптимального контраста и др.). Есть возможность съема изображений с накоплением сигнала.

    Автоматический и ручной поиск и распознавание центра маркерных знаков
    NanoMaker позволяет задать систему окон (с вариацией положения, размеров и разрешения), которая соответствует положению маркерных знаков на подложке, а также содержит гибкую подсистему управления съемом изображений этих окон для поиска этих знаков и распознавания их изображений. Данная функция широко используется в NanoMaker для калибровки поля сканирования, согласования координатных систем, совмещения слоев при послойной литографии, компенсации дрейфа и др.

    Подсистемы измерения статических и динамических дисторсий. Программная компенсация ошибок позиционирования луча
    NanoMaker содержит специальные подсистемы для быстрого и удобного измерения статических и динамических дисторсий отклоняющей системы РЭМ. Измеренные данные затем автоматически используются для программной компенсации ошибок позиционирования луча. Это чрезвычайно важные функции. Они позволяют значительно сократить время экспонирования (в 6-10 раз) путем исключения ожиданий на время позиционирования луча за счет активной компенсации динамических дисторсий, а также увеличить поле рисования за счет его линеаризации.

    Подсистема согласования координатных систем
    При экспонировании зачастую необходимо совмещение нескольких координатных систем, например, координат спроектированной структуры, координат отклоняющей системы электронного луча, координат перемещения стола. NanoMaker дает возможность выбрать одну из них ведущей и привести к ней все остальные. Например, при наличии точного лазерного стола все координатные системы могут быть приведены к точной системе перемещения стола.

Уникальные особенности

Следующие уникальные функции выделяют NanoMaker на рынке аналогичных систем:
  • Коррекция эффекта близости для 2D-и 3D-структур.
  • Моделирование эффекта близости и проявления резиста.
  • Измерение и активная компенсация динамических ошибок отклоняющей системы, что позволяет значительно сократить общее время экспонирования.
  • Возможность экспонирования без бланкирования луча.
  • Компенсация статических ошибок (дисторсии) отклоняющей системы для экспонирования в большом поле.
  • Специальные опции для проектирования голограмм и киноформных приложений.
  • Расчет данных для экспонирования с помощью интегрированной опции расчета по методу Монте Карло.

Ни одна из ведущих мировых компаний участвующих в разработке аналогичных систем на рынке не предлагает такой набор функций.
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                   
 
    Copyright © 2002-2017 Interface Ltd. & IMT RAS