Fabrication of rainbow hologram with NanoMaker  Fabrication of Rainbow Hologram with NanoMaker
 NanoMaker  Скачать  Примеры Использования  Поддержка  Публикации  Контакты 
English      Russian
 NanoMaker
 О Продукте
 Функции
 Продукты
 Генератор Изображений
 Фотогалерея
 Скачать
 Примеры Использования
 Поддержка
 Публикации
 Контакты
Site search by Google
Рейтинг@Mail.ru  eXTReMe Tracker
Рекомендованные параметры функции близости

Рекомендованные параметры функции близости

Ваш браузер не понимает тэг <APPLET>. Вот такое интерактивное диалоговое окно вы увидите, если будете использовать Java-совместимый браузер:
Proximity Parameters Recommended applet view
Точность коррекции эффекта близости (и результат литографии) очень во многом зависит от точности установленных параметров функции близости. Установка неверных параметров может даже увеличить ошибки электронно-лучевой литографии. Вот почему NanoMaker поддерживает базу данных, где могут быть найдены рекомендованные параметры функции близости для наиболее распространенных типов подложек.
Electron beam scattering schematic picture

Апплет предоставляет Alpha, Beta and Eta параметры функции близости (см. Fig.1) для Si или GaAs подложек и ПММА резиста для различных ускоряющих напряжений Voltage, толщин резистов H0, and исходных диаметров пучка Alpha0. Параметры интерполируются результатами экспериментальных данных [1]. Свободно распространяемая версия продукта NanoMaker-Editor включает расчет параметров для большего количества типов подложек.


Fig. 1. Быстрые электроны экспонируют слой резиста дважды - при входе и отражении от подложки. Если дозу облучения, при прямом проходе электронов взять за 1, то тогда параметр функции близости Eta характеризует дозу экспонирования обратно отраженных электронов (электронов, которые покидают подложку).
0–диаметр электронного луча на входе в резист,
–диаметр электронного луча на входе в подложку,
– диаметр области выхода обратно отраженных электронов из резиста. Beta характеризует так называемое расстояние близости и фактически определяет область экспонирования.

1. L.I.Aparshina, S.V.Dubonos, S.V.Maksimov, A.A.Svintsov, and S.I.Zaitsev. Energy dependence of proximity parameters investigated by fitting before measurement tests. J.Vac.Sci.Technol. B 15(6),Nov/Dec 1997 pp.2298-2302.

                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                   
 
    Copyright © 2002-2017 Interface Ltd. & IMT RAS