Fabrication of rainbow hologram with NanoMaker  Fabrication of Rainbow Hologram with NanoMaker
 NanoMaker  Скачать  Примеры Использования  Поддержка  Публикации  Контакты 
English      Russian
 NanoMaker
 Скачать
 Примеры Использования
 Совмещение и Послойная Литография
 Автоматическая Стыковка Полей Совмещением по Сетке Маркеров
 2D Коррекция Эффекта Близости
 3D Коррекция Эффекта Близости
 Сверхвысокое Разрешение
 Изготовление OVD
 Диффракционная Оптика
 Коррекция Динамических Искажений
 Управление AFM
 Интеграция с Лазерным Столом
 Прямое Осаждение Тонких Пленок
 Изготовление Сверхострых Игл
 Сканирующий Гелий-Ионный Микроскоп Orion
 Поддержка
 Публикации
 Контакты
Site search by Google
Рейтинг@Mail.ru  eXTReMe Tracker
Коррекция динамических ошибок отклоняющей системы микроскопа

Коррекция динамических ошибок

NanoMaker обладает еще одной абсолютно уникальной функцией, которая позволяет измерять и активно компенсировать динамические искажения отклоняющей системы микроскопа. Эти ошибки неизбежно возникают в электромагнитных системах отклонения всех без исключения микроскопов в результате переходных процессов, когда необходимы мгновенные перемещения луча на большие расстояния. Все известные нам литографические системы до сих пор используют единственный способ для решения этой проблемы - это бланкирование луча на время его перемещения. Фактически это означает, что на некоторое время ток выключается и возникает вынужденный простой в процессе экспонирования. Хотя продолжительность таких остановок оценивается в миллисекундах, общее время экспонирования увеличивается очень существенно (даже в разы). NanoMaker снабжен функцией, которая позволяет избежать выключения тока и решает проблему "на лету" путем расчета траектории таким образом, чтобы обеспечить перемещение электронного пучка в нужную точку и нужный момент времени.

Эта особенность позволяет использовать для проведения литографии микроскопы не оборудованные системой быстрого бланкирования луча. Конечно, бланкирование луча необходимо, когда микроскоп оборудован компьютеризованным столом и нужно экспонировать с перемещениями стола. Если микроскоп оснащен механическим столом с лазерными интерферометрами, NanoMaker позволяет экспонировать очень большие структуры, осуществляя совмещение и стыковку полей после переездов.

Данный тест был выполнен в компании Raith GmbH, чтобы продемонстрировать преимущества применения коррекции динамических ошибок системы отклонения при экспонировании. Литография выполнялось с использованием 13-ти разрядного генератора изображений на микроскопе JSM 6400 не оборудованном системой бланкирования луча. Время экспонирования на точку (dwell time) составляло 18 мкс.

Working principle Test pattern
Fig. 1a. Принцип идеи компенсации динамических ошибок Fig. 1b. Тестовая структура для выявления динамических эффектов


Fig. 1а демонстрирует принцип идеи компенсации динамических ошибок. Дизайн тестовой структуры, которая была использована для демонстрации результатов коррекции динамических ошибок в процессе экспонирования показан на рис. 1b.

 

Fig. 2a. Результат экспонирования без компенсации динамических ошибок Fig. 2b. Структура экспонированная с применением компенсации динамических ошибок

Fig. 2a демонстрирует изображение тестовой структуры экспонированной без применения компенсации динамических ошибок. Рваные фрагменты образвались в результате длинных прыжков электронного луча (более 200 микрон), из-за которых переходные процессы в усилителях и катушках отклонения продолжались в течение нескольких миллисекунд. Такие искажения могут быть исключены стандартным способом путем бланкирования луча на время его перемещения и успокоения, которое может составлять примерно 1-10 миллисекунд (так называемый Settling time интервал). Но такой способ ведет к прямой потере производительности.

NanoMaker позволяет рассчитать траекторию электронного луча и переместить его в нужное место в нужное время таким образом, чтобы скомпенсировать ошибки отклоняющей системы. На Fig. 2b показан результат экспонирования с использованием активной компенсаци динамических ошибок.

                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                   
 
    Copyright © 2002-2017 Interface Ltd. & IMT RAS