Fabrication of rainbow hologram with NanoMaker  Fabrication of Rainbow Hologram with NanoMaker
 NanoMaker  Скачать  Примеры Использования  Поддержка  Публикации  Контакты 
English      Russian
 NanoMaker
 Скачать
 Примеры Использования
 Совмещение и Послойная Литография
 Автоматическая Стыковка Полей Совмещением по Сетке Маркеров
 2D Коррекция Эффекта Близости
 3D Коррекция Эффекта Близости
 Сверхвысокое Разрешение
 Изготовление OVD
 Диффракционная Оптика
 Коррекция Динамических Искажений
 Управление AFM
 Интеграция с Лазерным Столом
 Прямое Осаждение Тонких Пленок
 Изготовление Сверхострых Игл
 Сканирующий Гелий-Ионный Микроскоп Orion
 Поддержка
 Публикации
 Контакты
Site search by Google
Рейтинг@Mail.ru  eXTReMe Tracker
Автоматическая стыковка полей совмещением по сетке маркеров

Автоматическая стыковка полей совмещением по сетке маркеров

Данный пример был выполнен для демонстрации возможностей системы по экспонированию больших структур с переездами стола и стыковкой подполей в автоматическом режиме. Работа была выполнена на микроскопе Zeiss SEM EVO-50 оснащенном стандартным механическим столом, точность переезда которого хуже 1 um. В качестве структуры для экспонирования была выбрана Брэгг-Френелевской линза 1+3+5 порядков с размерами 1250 um x 180 um и минимальным размером зон 200 nm. Экспонирование выполнялось с переездами стола через 200 микрон. Преимущественное направление переезда вдоль горизонтальной оси. В каждом подполе перед экспонированием выполнялась автоматическая настройка поля по одному маркерному знаку для компенсации неточностей перемещения стола. Для того чтобы осуществить такую процедуру на исходной Si подложке с помощью оптической литографии с последующим осаждением металла были созданы контрастные маркеры в виде крестов. Шаг между центрами маркеров 200 микрон, ширина перекрестья около 1.5 микрон. Линза была нарисована в резисте PMMA-950 толщиной 400 нм при ускоряющем напряжении 15 кВ. После проявления на подложку было нанесено ~100 нм Au и выполнен lift-off. Как видно из публикуемых ниже фотографий, точность стыковки полей была лучше чем 100 нм. А лимитирующим фактором для данной процедуры явилось качество изготовления маркеров использовавшихся для совмещения.

Whole lens image
Fig. 1. Общий вид изготовленной линзы и сетки маркеров. Брэгг-Френелевская линза 1 +3 +5 порядков габаритными размерами 1250 мкм х 180 мкм и размером минимальной зоны 200 нм. Линза была экспонирована в 400 нм ПММА-950 резисте при ускоряющем напряжении 15 кВ и перенесена в 100 нм Au пленку посредством lift-off процедуры. Несколько маркеров, видимых в левой части изображения были использованы для предварительного совмещения координатных систем образца, отклоняющей системы микроскопа и стола при помощи полуавтоматической процедуры. А затем, все экспонирование и стыковка полей по сетке маркеров были выполнены в автоматическом режиме.
Fig. 2. Фрагмент Брэгг-Френелевской линзы 1 +3 +5 порядков.


Fig. 3. Фрагмент линзы в месте стыковки нескольких зон. Размер минимальной зоны 200 нм. Точность стыковки полей лучше чем 100 нм.


Работа была выполнена в ИПТМ РАН в Черноголовке др. М. Князевым и др. А. Свинцовым.
Fragment of Bragg-Fresnel 
              lens of 1+3+5 orders at stitching point
Fig. 4. Фрагмент Брэгг-Френелевской линзы 1+3+5 порядков на границе состыкованных полей
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                   
 
    Copyright © 2002-2017 Interface Ltd. & IMT RAS